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We are doing research on adding functions to a substrate with Tokyo University and Hokkaido University, and technology for nano-level film formation is the first in the world and there is no other technique like it. We successfully formed a crystal film of fluorine, which realizes soil-resistant products, chemical-resistant products, and water vapor barriers using the characteristic of fluorine, and we received an order for a chemical-resistant product from a large semiconductor manufacturer.

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自己組織化法によるフッ素成膜及び酸化チタン成膜

新価値創造展2019 出展者プレゼンテーションステージ 2019年11月29日 CS1(自己組織化法によるフッ素成膜) 世界初の技術で、簡単・瞬時に出来る自己組織化法によるフッ素成膜を実演致します。また、酸化チタン成膜技術を展示致します。当社の酸化チタン成膜は高結晶化しており有機物を完全酸化し、n型半導体でもあります。現在、東京大学と酸化チタンの導電性について研究を共同で行っております。

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